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エキシマレーザーステッパー
プロセスルールの微細化により露光プロセスではより短波長の光を使っての露光が必要になったためエキシマレーザーが使用されるようになりました。現在ではエキシマレーザーArF(193nm)も使われておりF2(157nm)の開発も進んでいます。スループットを上げるためレーザーは高繰り返しの物が使用されております。

メーカー
販売店
波長
詳細
ASML
ASML Netherlands B.V.
エーエスエムエル
オランダ

リクエスト
エーエスエムエル・ジャパン株式会社


Canon
キヤノン株式会社
Canon Inc.
日本

リクエスト
キヤノン株式会社


Nikon
株式会社ニコン
Nikon Corporation
日本

リクエスト
株式会社ニコン


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