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レーザー描画システム
フォトレジストにレーザー光を照射し通常通りにフォトリソのテクニックを使用するタイプの製品が一般的ですが、EB同様のスタイルでレーザーによるアブレーション加工でエマルジョンや薄膜を直接除去するタイプの製品も存在します。どちらの手法にしてもマスクが不要なためランニングコストを抑えることが可能で納期面でも有利になります。また、描画の自由度も大幅にあがります。

メーカー
販売店
波長
詳細
LPKF
LPKF Laser & Electronics AG
エルピーケーエフレーザー アンド エレクトロニクス
ドイツ

リクエスト
LPKF Laser & Electronics株式会社
赤外線(IR)

ハイデルベルグ
Heidelberg Instruments GmbH
ハイデルベルグ インスツルメンツ
ドイツ

リクエスト
株式会社日本レーザー


ネオアーク
ネオアーク株式会社
Neoark Corporation
日本

リクエスト
ネオアーク株式会社


OPCell
株式会社オプセル
OPCell Co.,Ltd
日本

リクエスト
株式会社オプセル


マイクロニック
Micronic Laser Systems AB
マイクロニック レーザー システム
スエーデン

リクエスト
マイクロニックジャパン株式会社


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