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マンスリーマガジン(オプトロニクス 11月号)

月刊 「オプトロニクス
毎月10日発行 (株式会社 オプトロニクス社

光技術のリーディングマガジン
1981年創刊の月刊OPTRONICSは,広範な産業技術領域において必須のキーテクノロジーとなっている光技術の最新動向を,毎号テーマに沿って特集企画,第一線で活躍中のエキスパートの方々が解説します。この他にも連載やシリーズ,レポート,インタビュー,読み物など,多角的に光産業と技術をとらえ,多くの方々から好評をいただいております。月刊オプトロニクスは、光技術の研究から事業までを体系的にとらえる テクノコーディネート・ジャーナルとして、わが国最高のスタッフが 責任を持って編集にあたり、光技術に関するホットな情報を、的確に、 敏速に、しかも平易に提供、多くの読者から絶大なる信頼を得ています。
 

オプトロニクス 11月号

◆特集 光応用環境計測
・総論
 [東海大学 山口 滋]
・レーザーを用いた大気微量成分のリアルタイムその場計測
 [名古屋大学 中山 智喜,松見 豊]
・ポンプ・プローブ法による大気中VOC分析
 [首都大学東京 中嶋 吉弘,梶井 克純]
・光を用いた火力発電所排ガス計測
 [(財)電力中央研究所 福地 哲生]
・受動波長ロック型外部共振器(Passively Locked External Cavity, PLEC)半導体レーザーのキャビティリングダウン分光による大気微量ガス検出
 [東海大学 山口 滋]
・防災用ライダーを用いた気象急変予測 ─豪雨・落雷予測のための近距離大気/雲計測─
 [千葉大学 椎名 達雄]
・ライダーを用いた遠隔粉塵計測
 [(株)INCエンジニアリング 横沢 剛]
・レーザ式ガス検知器を用いたメタンの測定
 [アンリツデバイス(株) 原 毅,鈴木 敏之]
・光等を用いた化学物質・毒物検知〜特に,化学剤の現場検知技術について〜
 [科学警察研究所 瀬戸 康雄]

◆連載・シリーズ
・原点に戻って学ぶレーザー原論
 第20回 レーザー光を操る技術(4)非パラメトリック非線形光学過程
 [(独)科学技術振興機構 黒澤 宏]
・発明・特許のこぼれ話
 第35回 レントゲンとX線
 [SMK(株) 鴫原 正義]
・光技術者のための基礎数学
 第23回 幾何学(I)
 [職業能力開発総合大学校 河合 滋]
・光技術の研究開発・特許動向II/技術別に見る最新情報
 第155回 ナノシリコン(シリコン微粒子)
 [嶋本国際特許事務所 嶋本 久寿弥太]

◆FOCAL POINT
・パラダイムシフトを迎えた日本のICT産業の活路は?
 [編集部]
・ディスプレイが映える技術が進展!
 [編集部]

◆NEWS FLASH

◆MARKET WATCH(新企画)
・光通信市場,回復基調へ
・発光ダイオード輸出数量,9ヶ月連続のプラス
・液晶テレビの生産実績,14ヶ月連続のプラス
・民生用電子機器国内出荷金額,対前年同月比121.4%の2,674億円
・総務省,FTTHの契約数を発表

◆CALENDAR

◆EVENTS
・第2回光学薄膜ソフト「OptiLayer」ワークショップ「光学薄膜の最新設計理論と実際」
・オプトロニクス社セミナー「基礎から学ぶ光学設計セミナー」
・オプトロニクスフェア2010 in浜松 浜松地域オプトロニクス産業総合展示会
・月刊OPTRONICS特別セミナー「注目のプラズモニクス技術の現状と応用技術の可能性」
・ナノフォトニクス塾2010「光学入門―光の性質を知ろう」
・ナノフォトニクス塾2010ナノフォトニクス・中級&フォーラム「先端光技術をビジネスに活かす」
・募集 LPM2011 第12回レーザ精密微細加工国際シンポジウム

◆PRODUCTS INFORMATION

◆今月のコメント

◆12月号 特集 次世代リソグラフィ・注目の技術(仮)
・オプティカル・エクステンションによる微細化技術:(株)東芝 井上壮一
・ダブルパターニングによる高解像度化:東京エレクトロン(株) 八重樫英民
・SMO(ソースマスクオプティマゼーション)技術:ルネサスエレクトロニクス(株)内山貴之,永原誠司
・EUVLの開発状況:(株)半導体先端テクノロジーズ 田中裕之,須賀治
・EUV露光装置の将来動向:(株)ニコン 村上勝彦
・EUV光源の開発状況:極端紫外線露光システム技術開発機構 笠間邦彦
・EUVL用マスクブランクスの開発現況:HOYA(株) 笑喜勉
・EUVL用レジストの開発状況と将来展望:大阪大学 古澤孝弘







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