レーザーリフトオフ装置

レーザーリフトオフ装置

レーザーリフトオフ加工とはガラスや結晶基板から薄膜を剥離させる加工のことです。もともとはサファイア基板に成長させたLED用のGaN(窒化ガリウム)系化合物結晶層(材料層)をサファイア基板から剥離する技術でしたが、今ではガラス基板上のポリマー系薄膜デバイス層や同じくポリマー系のフレキシブルディスプレイ用デバイス等を剥離させる工法などへも応用が広がっています。
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メーカー モデル名 レーザータイプ
 
株式会社オプトピア
Optopia Co.,Ltd.
日本

販売:
株式会社オプトピア
固体UVレーザLLO装置 LSL-100F UV固体レーザー
515基板対応LLO装置 LSL 100 -515 UV固体レーザー
株式会社ディスコ
DISCO Corporation
日本
レーザリフトオフ対応装置 DFL7560L UV固体レーザー
3D-Micromac AG
スリーディー マイクロマック
ドイツ
レーザーリフトオフ microMIRA エキシマ or UV