レーザーリフトオフ装置
レーザーリフトオフ加工とはガラスや結晶基板から薄膜を剥離させる加工のことです。もともとはサファイア基板に成長させたLED用のGaN(窒化ガリウム)系化合物結晶層(材料層)をサファイア基板から剥離する技術でしたが、今ではガラス基板上のポリマー系薄膜デバイス層や同じくポリマー系のフレキシブルディスプレイ用デバイス等を剥離させる工法などへも応用が広がっています。
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メーカー | モデル名 | レーザータイプ |
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固体UVレーザLLO装置 LSL-100F | UV固体レーザー | |
515基板対応LLO装置 LSL 100 -515 | UV固体レーザー | |
レーザリフトオフ対応装置 DFL7560L | UV固体レーザー | |
レーザーリフトオフ microMIRA | エキシマ or UV |