PLDとはPulsed Laser Deposition（パルスレーザデポジション）法の略で、真空チャンバー中に置かれたターゲット材料にパルスレーザを照射し、光化学反応によりアブレーションした物質を対向する基板に堆積させるという、成膜法のひとつです。PLD法は、酸化物のような高融点物質の成膜が簡単に行えたり、ターゲット材の性能を薄膜化できたりと多の成膜法では難しい薄膜を作成することが出来ます。