レーザー成膜加工(PLD)
レーザー成膜加工はPLD(Pulse Laser Deposition)とも呼ばれる成膜方法で特に酸化膜の作成に利用されています。ターゲットにレーザーを照射することでアブレーションを起こし、そこから飛び出した材料を対面する基板に積層させる技術です。酸化膜の場合、他の手法では酸素が抜けて構造が変わったりしてしまいますがPLDの場合比較的簡単に成膜することができます。超伝導薄膜や強誘電体膜などのペロブスカイト構造の薄膜製作に利用されています。
材質別加工可否
加工装置概略図
酸化物 | ◎ |
化合物 | ◎ |
金属 | ◎ |
非鉄金属 | ◎ |
レーザー成膜(PLD)加工に使用されるレーザーはエキシマレーザー、UV固体レーザー、短パルスレーザーになります。ターゲットの材質や成膜エリアによりレーザーの波長や種類が異なりますが、アブレーションを原理としているためアブレーションの行えるレーザーのみが利用されています。
レーザー一覧
>>
レーザー成膜(PLD)加工に使用されるレーザーはエキシマレーザー、UV固体レーザー、短パルスレーザーになります。エキシマレーザーやUV固体レーザー、短パルスレーザーでは中間光学系にエネルギーを調整するためのアッテネーターやビーム径を広げるためのビームエキスパンダーそしてビームを反射させて光路を変えるためのミラーが使用されます。
光学系一覧
>>
レーザー成膜(PLD)加工に使用されるレーザーはエキシマレーザー、UV固体レーザー、短パルスレーザーになります。 ターゲット上での均一性を良くするためにマスク投影で利用されることもあります。ただビームを大きく振ることはないので通常のフォーカスレンズや単レンズが使用されることが多いです。
光学系一覧
>>